连续微光学元件在光刻胶上的面形控制

被引：7

作者：

曾红军

杜春雷

王永茹

白临波

邓启凌

陈波

郭履容

袁景和

机构：

[1] 中国科学院光电所微细加工光学技术国家重点实验室!成都,中国科学院光电所微细加工光学技术国家重点实验室!成都,中国科学院光电所微细加工光学技术国家重点实验室!成都,中国科学院光电所微细加工光学技术国家重点实验室!成都,中国科学院光电所微细加

来源：

光学学报 | 2000年 / 05期

基金：

“九五”攻关项目;

关键词：

连续微光学元件; 光刻胶线性; 倒易关系; 面形控制;

D O I：

暂无

中图分类号：

TH74 [光学仪器];

学科分类号：

0803 ;

摘要：

介绍了连续微光学元件在光刻胶上的面形控制方法。分析了光刻胶及显影液在制作二元和连续元件中所存在的差别 ;导出具有倒易关系的浮雕深度表达式和适用的范围 ,并以此指导面形的控制 ,对光刻胶进行适当的改造以适应连续微光学元件的制作。本文还给出了实验验证 ,制作出了多种质量优良的连续微光学元件 ,并对典型元件的面形进行了评价。

引用

页码：691 / 696

页数：6