硅微透镜阵列

被引：4

作者：

麦志洪，易新建，赵兴荣

机构：

[1] 华中理工大学

来源：

关键词：

半导体技术，微透镜阵列，硅，离子束刻蚀;

D O I：

10.16818/j.issn1001-5868.1996.02.009

中图分类号：

TN304.12 [];

学科分类号：

0805 ; 080501 ; 080502 ; 080903 ;

摘要：

采用融熔法制备球冠形的光致抗蚀剂掩膜，用离子束刻蚀实现球冠形向硅片上转移，有效地在较低衬底温度下（低于２００℃）制备出了硅微透镜阵列。通过扫描电子显微镜（ＳＥＭ）和表面探针实验证实了微透镜为球冠形。

引用

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