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SERS光谱及电化学法研究硫脲和苯基硫脲对铁的缓蚀作用
被引:6
作者
:
顾仁敖
论文数:
0
引用数:
0
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0
机构:
苏州大学化学院
顾仁敖
邓正发
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机构:
苏州大学化学院
邓正发
孙如
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机构:
苏州大学化学院
孙如
机构
:
[1]
苏州大学化学院
来源
:
光谱学与光谱分析
|
1997年
/ 06期
关键词
:
硫脲,苯基硫脲,铁,缓蚀作用,表面增强拉曼散射,电化学;
D O I
:
暂无
中图分类号
:
O433.5 [各类光谱];
学科分类号
:
0703 ;
070302 ;
摘要
:
运用过电位沉积技术沉积一薄层铁到活化的银电极表面制得薄层铁电极,通过表面增强拉曼散射光谱和电化学方法研究了硫脲和苯基硫脲在该电极表面的E-I曲线和SERS谱。结果表明,在0.1mol/LKCl溶液中,上述两种缓蚀剂均能吸附在铁的表面,对铁起缓蚀作用,二者在铁表面的吸附模式基本相似,系通过分子中的硫原子与金属铁作用。苯基硫脲由于硫原子带有更多的负电荷,更易与铁作用,其苯环因位阻效应而远离金属表面排列,形成较紧密的吸附层,因而其对铁的缓蚀效果更好。
引用
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页码:16 / 19
页数:4
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