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氧化钕中十四个稀土杂质的光谱测定
被引：5
作者：
翁永和
刘振祥
机构：
[1] 南开大学化学系
来源：
关键词：
稀土杂质;
光谱测定;
光栅摄谱仪;
线色散率;
氧化钦;
D O I：
暂无
中图分类号：
学科分类号：
摘要：
<正> 前言氧化钕是生产钕玻璃,钇铝石榴石的主要原料,其纯度的好坏直接影响激光材料的性能。自V. A. Fassel于1948及1952年使用石墨粉与试样混合的方法测定氧化钕中的钐及镨以来;Y. Osumi等曾采用氯化铯-石墨粉缓冲剂在氩控制气氛下,使用GEM-340大型光栅光谱仪同时测定氧化钕中十一个稀土杂质。但此法由于采用光量计,所选的分析线在摄谱法中大多数灵敏度不够高或受基体线强烈干扰,无法采用;而在常用的直接光谱法中,也需在摄谱仪线散率不少于1.25(?)/mm时才能进行测定,且仅能测
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