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电晕探测中的紫外对焦控制系统
被引:2
作者
:
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袁红艳
闫丰
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中国科学院长春光学精密机械与物理研究所
闫丰
陈俊江
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机构:
中国科学院长春光学精密机械与物理研究所
陈俊江
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机构:
张涛
机构
:
[1]
中国科学院长春光学精密机械与物理研究所
来源
:
光电工程
|
2007年
/ 07期
关键词
:
电晕探测;
紫外对焦控制;
误差分析;
信号分析;
D O I
:
暂无
中图分类号
:
TP273 [自动控制、自动控制系统];
学科分类号
:
080201 ;
0835 ;
摘要
:
本文简要介绍了电晕探测的原理,采用可见光与紫外双光谱探测方法来检测电晕信号的存在并对其进行定位。文中介绍了电晕探测系统紫外对焦控制模块,并阐述了对焦的双闭环控制过程及其软硬件实现方法。分析了对焦控制过程中误差产生的原因,主要包括传动机构的空回及系统的过冲量。通过实验测量得到传动机构的空回和过冲量,将其加入紫外对焦过程的总对焦量。采用上述方法可以减小紫外对焦系统的对焦误差,使紫外相机像面始终处于焦深之内。最后,利用电晕探测系统对高压电厂中的电晕信号进行检测并定位。
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