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金刚石薄膜半导体器件
被引:16
作者
:
论文数:
引用数:
h-index:
机构:
范建兴
论文数:
引用数:
h-index:
机构:
陈启秀
机构
:
[1]
浙江大学信电系功率器件研究所
来源
:
半导体情报
|
1998年
/ 05期
关键词
:
金刚石薄膜,半导体器件,性能;
D O I
:
暂无
中图分类号
:
TN321.504.18 [];
学科分类号
:
摘要
:
介绍了金刚石薄膜的性质、当今金刚石薄膜半导体器件的技术、水平和性能。分析了金刚石薄膜作为半导体器件的优异性能、金刚石相对于硅的半导体器件性能的改善和存在的问题,并指出实现金刚石薄膜半导体器件的障碍。
引用
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页数:7
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