电压对镁合金微弧氧化膜组织及耐蚀性的影响

被引:29
作者
姚美意
周邦新
王均安
机构
[1] 上海大学材料研究所
[2] 上海大学材料研究所 上海
[3] 上海
关键词
微弧氧化; 镁合金; 微观结构; 耐蚀性;
D O I
10.16577/j.cnki.42-1215/tb.2005.06.003
中图分类号
TG174.4 [金属表面防护技术];
学科分类号
080503 ;
摘要
由于镁合金耐蚀性差,其应用受到了限制。采用SEMEDS,XRD等表面分析技术研究了不同电压对MB5镁合金微弧氧化膜表面形貌、相结构与成分的影响,并用电化学测试方法考察了氧化膜层的耐腐蚀性能。结果表明:处理电压对微弧氧化膜层的微观组织结构、成分有显著影响,而微弧氧化膜层的微观组织结构与成分又直接影响其耐蚀性。在120~200V下进行微弧氧化,160V时试样耐蚀性最好。镁合金微弧氧化膜由αMgF2,MgO,Mg2SiO4和MgAl2O4等含硅或铝的尖晶石型氧化物组成,随着氧化处理电压的增加,MgO的含量明显增加。微弧氧化时出现氧化膜微区熔化,溶液离子与基体合金都参与了微弧区物理化学反应。
引用
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页码:7 / 10+75 +75
页数:5
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