红外透明导电金属网栅薄膜

被引：15

作者：

高劲松

孙连春

郑宣明

朱世栋

赵晶丽

机构：

[1] 中国科学院长春光学精密机械与物理研究所

来源：

关键词：

光刻; 镀膜; 金属网栅; 电磁屏蔽; 红外;

D O I：

10.13741/j.cnki.11-1879/o4.2001.06.036

中图分类号：

O484.41 [];

学科分类号：

0803 ;

摘要：

介绍了一种既高效透过红外光 ,同时又能有效屏蔽电磁干扰的金属网栅薄膜的基本原理和制备工艺。分析了网栅参数对其光学及电磁性能的影响。介绍了利用光刻和镀膜技术 ,在红外基片上制作线条宽度小于 10 μm ,周期约 35 0 μm的金属网栅。

引用

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