DC　PJ－CVD等离子体炬通道中的电弧行为

被引：6

作者：

李惠琪，钟国仿，吕反修，杨让

机构：

[1] 北京科技大学材料科学与工程系

来源：

北京科技大学学报 | 1994年 / 06期

关键词：

等离子体，等离子喷射设备，电弧，化学汽相沉积;

D O I：

10.13374/j.issn1001-053x.1994.06.009

中图分类号：

O531 [产生];

学科分类号：

070204 ;

摘要：

运用电磁学和热流体学的方法研究了直流大阳极喷嘴长电弧通道等离子体炬中电弧的行为，并通过实验证明了温度梯度与电场梯度作用于流体时所产生的特殊现象；结果表明：电弧弧柱的高温效应剧烈排斥冷气流的混入，使ＣＶＤ过程受到抑制。新产生的胶体粒子在热泳现象作用下逐渐沉积于通道内壁上。改变不同气体的进气位置以及减小温度与电场梯度并增设径向旋转磁场，可有效地解决上述问题

引用

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DC PJ－CVD等离子体炬通道中的电弧行为

DC　PJ－CVD等离子体炬通道中的电弧行为