沉积温度对等离子增强化学气相沉积TiN薄膜内应力的影响

被引：1

作者：

陈瑾

徐可为

高润生

何家文

赵程

李世直

机构：

[1] 西安交通大学

[2] 青岛化工学院

来源：

真空科学与技术 | 1992年 / 04期

关键词：

TiN薄膜; 内应力; 等离子增强化学气相沉积; X射线衍射;

D O I：

10.13922/j.cnki.cjovst.1992.04.004

中图分类号：

学科分类号：

摘要：

实验表明,高速钢基体上的PECV-TiN薄膜处于压应力状态,其绝对值随沉积温度的升高而降低,反映微观组织状态及其不均匀性的衍射峰半高宽亦呈下降趋势,但晶体的择优取向受沉积温度影响较小。分析认为PECVD-TiN薄膜受离子轰击的影响较大,正常沉积温度下其内应力以本征应力为主,大小与薄膜的显微组织关系密切。较高温度下,热应力占主导地位,其大小主要决定于膜、基的热膨胀系数之差。

引用

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