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镀液组成对Ni-W合金电沉积的影响
被引:11
作者:
杨防祖
曹刚敏
郑雪清
许书楷
周绍民
机构:
[1] 厦门大学化学系!
来源:
关键词:
Ni-W合金;
电沉积;
结构;
形态;
D O I:
10.16577/j.cnki.42-1215/tb.1999.08.001
中图分类号:
TQ153.2 [合金的电镀];
学科分类号:
0817 ;
摘要:
采用电化学、分光光度、X 射线衍射和金相显微技术等方法研究Ni-W 合金电沉积电流效率、沉积层的组成、结构和表面形态。结果表明,随着镀液中钨酸钠浓度提高,合金沉积层中的W 含量变化不大,沉积电流效率提高;形成置换固溶体的合金沉积层X 射线衍射(XRD)峰强度降低,趋于矮胖,2θ向低角度偏移;引起(111)晶面间距、晶胞参数和晶格畸变的增大,而显微晶粒尺寸减小;合金沉积层的电结晶生长形态逐渐呈均匀排列的团粒状。
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