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8～1μm分步重复投影光刻机六自由度硅片定位系统设计与计算[J]. 胡淞,苏伟军.光电工程. 1998(03)
步进扫描投影光刻机工件台和掩模台的进展
被引：22
作者：
刘丹
程兆谷
高海军
黄惠杰
赵全忠
谌巍
机构：
[1] 中国科学院上海光学精密机械研究所
来源：
关键词：
步进扫描投影光刻机;
工件台;
掩模台;
套刻精度;
D O I：
暂无
中图分类号：
TN305.7 [光刻、掩膜];
学科分类号：
摘要：
着重介绍了当前国外步进扫描投影光刻机的工件台和掩模台的发展状况,并对套刻精度和整机精度进行了分析。
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