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金属复层膜渗氢的电化学测定
被引:4
作者
:
吴辉煌
论文数:
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引用数:
0
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0
机构:
厦门大学物理化学研究所,厦门大学化学系
吴辉煌
论文数:
引用数:
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机构:
周绍民
机构
:
[1]
厦门大学物理化学研究所,厦门大学化学系
来源
:
厦门大学学报(自然科学版)
|
1986年
/ 04期
关键词
:
D O I
:
暂无
中图分类号
:
学科分类号
:
摘要
:
对由镀层和基体金属组成的复层体系的渗氢行为进行理论分析,导出渗氢电流关系式。依实际条件的不同,渗氢暂态分为升起暂态和衰降暂态。导出的公式表明,利用单一条渗氢电流曲线有可能同时确定氢在镀层和基体中的扩散系数D1和D2。单面镀镍的铜片上的渗氢测定结果证明,由升起暂态和衰降暂态分别得到的一组D1和D2值基本一致。文中对复层和单层体系的渗氢卑流公式进行比较,指出单层金属上渗氢阻挡层的存在对渗氢暂态的影响。
引用
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页码:435 / 440
页数:6
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