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纳米硅薄膜结构分析
被引：10
作者：
何宇亮
殷晨钟
程光煦
王路春
李齐
机构：
[1] 南京大学物理系固体微结构实验室
[2] 江南大学电子工程系
来源：
关键词：
纳米硅薄膜;
硅烷;
有机硅化合物;
纳米结构;
纳米相;
反应气氛;
沉积膜;
晶体微结构;
晶粒大小;
晶态;
光能隙;
高氢稀释;
玻璃膜;
半导体膜;
硅膜;
纳米材料;
射线衍射;
散射谱;
D O I：
暂无
中图分类号：
学科分类号：
摘要：
在常用的PECVD电容式耦合沉积系统中,使用高氢稀释硅烷为反应气氛,在r.f.+DC双重功率源激励下制备出具有纳米相结构的硅薄膜.使用HREM,Raman光散射,X射线衍射以及红外和紫外光谱分析手段广泛地检测了其结构特征.指出,纳米硅(nc-Si:H)薄膜由于具有一系列新的结构特征使它脱颖于熟知的 a-Si:H及 μc-Si:H范畴,从而显示出它自己的独特性能.
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页数：8
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