CMP平坦化技术在LCoS显示器中的应用

被引：7

作者：

代永平

耿卫东

孙钟林

王隆望

机构：

[1] 南开大学信息学院

[2] 北京微电子技术研究所天津

[3] 天津

[4] 北京

来源：

光电子技术 | 2003年 / 01期

关键词：

硅基液晶屏; 平整度; 化学机械抛光;

D O I：

10.19453/j.cnki.1005-488x.2003.01.010

中图分类号：

TN873.93 [];

学科分类号：

0810 ; 081001 ;

摘要：

作为一类新型 L CD技术的 LCo S显示屏是一种反射式液晶显示器 ,其镜面反射电极的平整性决定了整个显示器的亮度和对比度等主要显示参数。本文详细讨论了 CMP技术在LCo S液晶显示器中实现平坦化的机理

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共 2 条

[1] 硅基液晶显示器(LCoS)核心——显示系统芯片的设计分析 [J].

代永平 ;

耿卫东 ;

孙钟林 .

光电子技术, 2001, (02) :79-88

[2]

Benzocyclobutene (BCB) dielectrics for the fabrication of high density, thin film multichip modules[J] . David Burdeaux,Paul Townsend,Joseph Carr,Philip Garrou.Journal of Electronic Materials . 1990 (12)