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短波长软X射线多层膜高级次峰设计与制备
被引：7
作者：
邵建达
易葵
范正修
王润文
崔明启
机构：
[1] 中国科学院上海光学精密机械研究所
[2] 中国科学院高能物理研究所
来源：
关键词：
多层膜;
光学薄膜;
反射率;
反射比率;
短波长;
布喇格衍射;
D O I：
暂无
中图分类号：
O484 [薄膜物理学];
学科分类号：
080501 ;
1406 ;
摘要：
考虑了短波长软Ｘ射线多层膜的设计问题，比较了一、二、三级布喇格衍射峰设计的反射率结果，分析了反射率与周期厚度及金属层在周期中的比率的关系．本文认为，在存在不连续金属膜层的情况下，用布喇格衍射峰的二级次设计，有助于获得实测的反射率．给出了利用磁控溅射方法沉积的Ｍｏ／Ｓｉ多层膜在４４７ｎｍ处同步辐射测量，在６０°入射角下获得８５％实测反射率的结果．
引用
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页码：179 / 187
页数：9
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