等离子氮化与物理气相沉积TiN复合镀研究现状

被引：7

作者：

许俊华

顾明元

李戈扬

机构：

[1] 上海交通大学金属基复合材料国家重点实验室!上海

来源：

机械工程材料 | 1998年 / 06期

关键词：

等离子氮化; 离子镀; 微观组织; 性能;

D O I：

暂无

中图分类号：

TG174.4 [金属表面防护技术];

学科分类号：

080503 ;

摘要：

物理气相沉积（PVD）TiN镀层已获广泛应用。为进一步改善TiN镀层的性能，近年来致力于复合处理的研究，其中等离子氮化（PN）＋PVDTiN复合镀层的性能尤为优良，本文综述了其工艺、组织和性能之间的关系。

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页数：5

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