焙烧水滑石对氯离子的去除性能研究

被引：8

作者：

胡玉才

任玉华

荣明霞

王芳芳

吕菊波

刘春苹

刘淑芬

机构：

[1] 烟台师范学院化学与材料科学学院

[2] 烟台中粮葡萄酒有限公司

[3] 烟台师范学院化学与材料科学学院山东烟台

[4] 山东烟台

来源：

化学工程师 | 2005年 / 02期

关键词：

水滑石; 焙烧; 氯离子; 去除;

D O I：

10.16247/j.cnki.23-1171/tq.2005.02.003

中图分类号：

O647.3 [吸附];

学科分类号：

070304 ; 081704 ;

摘要：

采用晶核 /隔离法制备水滑石 ,并用X射线衍射技术对样品物相表征 ;利用水滑石焙烧后在一定条件下可重新吸收水和阴离子 ,从而部分恢复层状结构的结构记忆效应 ,考察了不同温度焙烧的水滑石去除氯离子的性能。实验结果表明 ,4 0 0℃下焙烧的水滑石对氯离子的去除率最高 ,达到 39.0 %。

引用

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页数：2

共 4 条

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