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红外光学系统内部构件热辐射分析
被引:6
作者
:
论文数:
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机构:
陈永和
傅雨田
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机构:
中国科学院上海技术物理研究所
傅雨田
论文数:
引用数:
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机构:
沈学民
机构
:
[1]
中国科学院上海技术物理研究所
来源
:
光学技术
|
2006年
/ 32(S1)卷
/ S1期
关键词
:
热辐射;
背景辐射;
杂散辐射;
热辐射抑制;
红外光学系统;
D O I
:
10.13741/j.cnki.11-1879/o4.2006.s1.076
中图分类号
:
TN215 [红外探测、红外探测器];
学科分类号
:
0803 ;
080401 ;
080901 ;
摘要
:
红外光学系统的内部构件由于呈现于光路之中,其表面热辐射将会通过光学系统到达探测像面而引起背景辐射噪声。本文利用LightTools分析软件对一套折反式红外光学系统内部机械构件的主要表面的热辐射进行了分析,得到了探测像面接收到的热辐射的量级。分析了三种不同的表面反射率的情况,能够用于指导如何进行表面处理和结构设计的改善。
引用
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页码:73 / 75+79 +79
页数:4
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