变间距光栅刻线密度测试系统的性能评价

被引：7

作者：

陈锵

胡中文

余小江

高家法

王秋平

王琪民

机构：

[1] 中国科学技术大学国家同步辐射实验室

[2] 中国科学技术大学精密机械与精密仪器系合肥

[3] 合肥

来源：

核技术 | 2004年 / 01期

关键词：

变间距光栅; 刻线密度; 测量系统;

D O I：

暂无

中图分类号：

TL81 [辐射探测技术和仪器仪表];

学科分类号：

082704 ;

摘要：

在国家同步辐射实验室二期工程光束线的建设中,建立了一套变间距光栅刻线密度的测试系统。该系统采用衍射测量法测量光栅间距的变化,可以对光栅长度为100 mm的平面和凹面光栅的刻线密度进行测量。样品测量结果表明,该系统的测量精度△N/N<2×10-4,满足光束线工程的要求,可以作为NSRL进口的变间距光栅的验收工具。

引用

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