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[1]
石英晶体微天平在高分子科学中的应用
被引：34
作者：
刘光明
张广照
机构：
[1] 中国科学技术大学化学物理系
来源：
关键词：
石英晶体微天平;
固/液界面;
高分子层;
构象变化;
D O I：
暂无
中图分类号：
O631.3 [高聚物的化学性质];
学科分类号：
070305 [高分子化学与物理];
摘要：
固/液界面上高分子的行为直接影响着界面的物理和化学性质。对于高分子在界面的动态行为,由于缺乏有效的手段,检测一直十分困难。最近,一种频率-耗散联用型石英晶体微天平(QCM-D)问世,它能够同时检测固/液界面上有关高分子质量和结构的变化,因而可应用于界面高分子研究的多个方面。本文介绍石英晶体微天平的基本原理,并综述作者实验室最近几年利用QCM-D开展的若干工作,包括固/液界面上高分子链的构象变化,固/液界面上高分子的吸附,高分子降解动力学和聚电解质的"层层组装"等方面。
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页码：174 / 188
页数：15
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