全球面变焦距光刻系统设计

被引：8

作者：

吕博 ^{[1
,2
]}

刘伟奇 ^{[1
]}

康玉思 ^{[1
]}

冯睿 ^{[1
]}

柳华 ^{[1
]}

魏忠伦 ^{[1
]}

机构：

[1] 中国科学院长春光学精密机械与物理研究所

[2] 中国科学院大学

来源：

光学学报 | 2013年 / 33卷 / 06期

关键词：

光学设计; 变焦距光学系统; 光刻物镜; 球面设计;

D O I：

暂无

中图分类号：

TN305.7 [光刻、掩膜];

学科分类号：

1401 ;

摘要：

设计了一种采用全球面透镜并具有变焦距功能的光刻系统。系统具有4个机械变焦的位置,两片负透镜作为变倍组,两片正透镜作为移动补偿组,补偿在变焦过程中由于系统共轭距离变化造成的像面移动。该系统光学总长为653.67mm,系统采用的22片透镜元件,全部采用球面设计,同时系统中没有使用特种光学玻璃。该系统工作在光刻常用波长405nm下,其500lp/mm调制函数值在4个变焦位置和所有视场内均大于0.40,绝对畸变小于六分之一特征尺寸。设计结果表明该系统成像效果良好,制作成本低,适用于工作在刻蚀微米量级分辨率、变焦距双远心光刻系统中。

引用

页码：262 / 267

页数：6

共 9 条

[1]

数字灰度光刻成像物镜设计.[D].陈铭勇.四川大学.2007, 05

[2]

两种变焦距光学系统的设计研究.[D].黄玲.浙江大学.2002, 01

[3] 大数值孔径产业化极紫外投影光刻物镜设计 [J].

刘菲 ;

李艳秋 .

光学学报, 2011, 31 (02) :232-238

[4] 变焦距系统设计的快速求解 [J].

梁来顺 .

应用光学, 2004, (01) :17-20

[5]

Optical lithography 40 years and holding..JOHN HB;.SPIE.2007,

[6]

投影光刻物镜的光学设计与像质补偿.[D].许伟才.中国科学院研究生院（长春光学精密机械与物理研究所）.2011, 07

[7]

光学设计.[M].袁旭沧等编;.北京理工大学出版社.1988,

[8]

光学设计理论基础.[M].王之江著;.科学出版社.1985,

[9]

应用光学.[M].张以谟主编;.机械工业出版社.1982,

← 1 →