共 8 条
盐密和灰密对110kV复合绝缘子闪络电压的影响
被引:55
作者:
蒋兴良
陈爱军
张志劲
胡建林
孙才新
机构:
[1] 重庆大学电气工程学院高电压与电工新技术教育部重点实验室
来源:
基金:
国家自然科学基金重大研究计划;
关键词:
合成绝缘子;
污秽;
盐密;
灰密;
闪络电压;
D O I:
10.13334/j.0258-8013.pcsee.2006.09.028
中图分类号:
TM216 [绝缘子和套管];
学科分类号:
0805 ;
080502 ;
080801 ;
摘要:
合成绝缘子具有很好的防污闪特性,但也会发生污秽闪络,这与常规的人工污秽试验仅考虑盐密的影响不无关系。文中选择110kV合成绝缘子为试品,在人工雾室中研究了灰密(NSDD)和盐密(ESDD)对合成绝缘子污闪特性的影响,分析了NSDD影响的原因,并采用2种方法对试验数据进行了分析和拟合。结果表明:人工污秽试验中,合成绝缘子污闪电压Uf与ESDD和NSDD均有关,但二者的影响是彼此独立的;随着ESDD或NSDD的增加,其Uf均按幂函数规律降低;ESDD和NSDD对Uf影响的特征指数分别为0.106、0.140,即对于合成绝缘子,灰密的影响大于盐密,这与瓷绝缘子相反;灰密对污闪电压影响的原因之一是吸收更多的水分,二是破坏合成绝缘子的憎水性。
引用
收藏
页码:150 / 154
页数:5
相关论文