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纳米精度外差干涉仪非线性漂移的研究
被引:12
作者
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论文数:
引用数:
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机构:
戴高良
殷纯永
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机构:
清华大学精密仪器与机械学系,中国矿业大学北京研究生部
殷纯永
论文数:
引用数:
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机构:
谢广平
机构
:
[1]
清华大学精密仪器与机械学系,中国矿业大学北京研究生部
来源
:
光学学报
|
1998年
/ 12期
关键词
:
外差干涉仪,非线性,非线性漂移,纳米测量,波片;
D O I
:
暂无
中图分类号
:
TH744.3 [];
学科分类号
:
摘要
:
在纳米精度外差干涉仪中,由于非线性的温度漂移,成为外差干涉仪实现纳米精度测量的重要误差源。本文对差动干涉仪的理论分析得出了如下的结论:干涉仪中除了存在测量光路和参考光路以外,还存在参考光误差分量和测量光误差分量的额外光路,从而引入新的干涉混叠,产生非线性漂移;1/4波片的相位延迟量误差和安装误差是引入非线性漂移的主要因素,其影响程度是一阶的。提高波片加工精度,并尽量减少其级数可降低非线性漂移。
引用
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页码:98 / 103
页数:6
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