集成电路制造中真实缺陷位置的提取方法

被引：3

作者：

王俊平

姜晓鸿

方敏

王正光

机构：

[1] 西安电子科技大学应用数学系

[2] 西安电子科技大学计算机学院

来源：

西安电子科技大学学报 | 1999年 / 04期

关键词：

IC缺陷；缺陷位置提取；形态算子;

D O I：

暂无

中图分类号：

TN402 [设计];

学科分类号：

080903 ; 1401 ;

摘要：

提出一种ＩＣ缺陷特征的提取算法，该算法能自动检测出ＩＣ缺陷的位置．在预处理阶段，利用形态开运算消除小缺陷和背景噪音，对开后的结果图像进行形态腐蚀，获得冗余物型缺陷的位置特征．实验证明了该算法的正确性．该结果为计算机自动检测ＩＣ真实缺陷提供了有效的途径．

引用

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页数：4

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共 1 条

[1] 用数学形态学方法处理地图中间断线型符号 [J].

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王正光 ;

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西安电子科技大学学报, 1998, (05) :86-89