HG-ICP-MS同时测定生物样品中痕量As,Se,Hg

被引：12

作者：

陈树榆

张志锋

余华明

机构：

[1] 中国科技大学结构分析重点实验室

[2] 中国科技大学结构分析重点实验室合肥

[3] 合肥

来源：

分析试验室 | 2004年 / 05期

关键词：

氢化物发生; 等离子体质谱; 砷; 硒; 汞;

D O I：

10.13595/j.cnki.issn1000-0720.2004.0109

中图分类号：

O657.63 [质谱分析];

学科分类号：

070302 ; 081704 ;

摘要：

以HNO3为介质,采用自行研制的二级气液分离器代替易消耗的膜分离器,在优化的实验条件下,采用HG-ICP-MS实现了As,Se,Hg的同时测定,分别获得了0.022,0.016,0.009 ngmL的检出限。实验研究了二级气液分离器中的气液分离行为、样品酸度、NaBH4质量浓度和引入方式等因素对测定灵敏度和精密度的影响。实验的结果表明,HG-ICP-MS同时测定As,Se,Hg的主要干扰来自于Fe,cu等过渡金属离子,样品溶液中抗坏血酸-硫脲的加入可以掩蔽这些离子的干扰。利用所建立的方法测定了人发、灌木叶和大米粉标样中痕量的As,Se,Hg,结果与标准参考值相符。

引用

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页数：5

共 13 条

[1]

Tan S Hand Horlick G. Applied Spectroscopy . 1986

[2]

Hall G E M,Pelchat J C. Journal of Analytical Atomic Spectrometry . 1997

[3]

Thompson J J,Houk R S. Applied Spectroscopy . 1987

[4]

Olsen L K,Vela N P,Caruso J A. Spectrochimica Acta Part B Atomic Spectroscopy . 1995

[5]

Infante H G,Sanchez M L F,Sanz-medel A. Journal of Analytical Atomic Spectrometry . 1998

[6]

Hall G E M,Maclaurin A I,Pelchat J C et al. Chemical Geology . 1997

[7]

Wei X Y,Brockhoffs C A,Creed J T. Journal of Analytical Atomic Spectrometry . 2001

[8]

Nakazato T,Tamiguchi T,Tao H et al. Journal of Analytical Atomic Spectrometry . 2000

[9]

Wei H Y,Brockhoff S C A,Creed J T. The Analyst . 2000

[10]

Stockwell P B,Corns W T. The Analyst . 1994

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