氢化物发生技术中化学干扰的研究进展

被引：71

作者：

张卓勇

曾宪津

黄本立

机构：

[1] 中国科学院长春应用化学研究所,中国科学院长春应用化学研究所,厦门大学长春,长春,厦门

来源：

光谱学与光谱分析 | 1991年 / 02期

关键词：

氢化物发生技术; 反应介质; 金属离子; 硼氢化钠; 共存元素; 化学干扰; 盐酸浓度;

D O I：

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中图分类号：

学科分类号：

摘要：

<正> 引言在氢化物发生技术与原子光谱分析方法的结合中,基体元素的干扰效应可分为二类:(1)在还原过程中氢化物生成效率的改变引起的干扰;(2)已被还原为氢化物的元素在原子化过程中形成稳定化合物而引起的干扰。可统称为化学干扰。在氢化物发生原子吸收光谱分析中,这二类干扰都是比较显著的。当使用感耦等离子体作激发光源时,由于等离子体的温度很高,而且送入等离子

引用

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