沉积温度对Ti-B-N复合薄膜微结构及力学性能的影响

被引：1

作者：

李戈扬

王纪文

王公耀

王永瑞

李鹏兴

机构：

[1] 上海交通大学金属基复合材料国家重点实验室

[2] 上海交通大学高温材料及高温测试教育部开放实验室

来源：

微细加工技术 | 1998年 / 04期

关键词：

Ti－B－N复合薄膜；多靶磁控溅射；微结构;

D O I：

暂无

中图分类号：

O484 [薄膜物理学];

学科分类号：

080501 ; 1406 ;

摘要：

采用多靶轮流溅射技术，用Ｔｉ和六方氮化硼（ｈ－ＢＮ）反应合成了Ｔｉ－Ｂ－Ｎ薄膜，采用ＸＲＤ、ＴＥＭ和显微硬度计研究了薄膜的微结构及其力学性能。结果表明，室温下沉积的Ｔｉ－Ｂ－Ｎ薄膜为非晶体的Ｔｉ（Ｎ，Ｂ）化合物，其硬度达到ＨＫ２４７０；高温下沉积的薄膜为ＴｉＮ结构类型的Ｔｉ（Ｎ，Ｂ）晶体，薄膜在晶化后硬度略有降低。

引用

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