磁控溅射技术新进展及应用

被引：171

作者：

张继成

吴卫东

许华

唐晓红

机构：

[1] 中国工程物理研究院激光聚变研究中心

[2] 中国工程物理研究院激光聚变研究中心绵阳硕士

[3] 绵阳

来源：

关键词：

磁控溅射; 磁控溅射新技术; 薄膜制备;

D O I：

暂无

中图分类号：

TB43 [薄膜技术];

学科分类号：

080101 [一般力学与力学基础];

摘要：

主要简介了磁控溅射技术的基本原理、基本装置、近年来出现的新技术(多靶磁控溅射技术、磁场扫描法、非平衡磁控溅射、脉冲磁控溅射技术、磁控溅射技术与其它成膜技术相结合等),以及国内外利用磁控溅射技术在多层膜和化合物薄膜制备方面取得的一些成果。

引用

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