等离子体断路开关的发展

被引：6

作者：

曾正中

邱毓昌

邱爱慈

孙风举

机构：

[1] 西安交通大学

[2] 西北核技术研究所

来源：

电工电能新技术 | 1998年 / 01期

关键词：

等离子体断路开关，等离子体染污;

D O I：

暂无

中图分类号：

TM564 [各种开关];

学科分类号：

摘要：

本文概述了等离子体断路开关的应用、原理和研究近况，就今后的发展趋势作了探讨。长传导时间的开关还需要深入研究以进一步改善其性能；重复率的开关将得到积极的研究以达到工业实用化水平；等离子体染污对开关性能的影响可能成为重要的研究内容之一。

引用

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页数：6

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共 1 条

[1] 等离子作融蚀断路开关实验研究 [J].

张德泉 ;

苏毅 ;

郑建国 .

强激光与粒子束, 1989, (02) :186-190