导电玻片上氧化亚铜膜的电沉积和表征

被引：19

作者：

陈志钢

唐一文

贾志杰

张丽莎

李家麟

余颖

机构：

[1] 华中师范大学物理科学与技术学院纳米科技研究院

[2] 华中师范大学物理科学与技术学院纳米科技研究院武汉

[3] 武汉

来源：

无机材料学报 | 2005年 / 02期

关键词：

氧化亚铜; 电沉积; 膜; 表征;

D O I：

暂无

中图分类号：

O646 [电化学、电解、磁化学];

学科分类号：

081704 ;

摘要：

研究了用简单铜盐通过阴极还原氧化亚铜的电化学行为,讨论了一些工艺因素对在导电玻片上电沉积Cu2O薄膜的影响,并对所制备的Cu2O薄膜分别用台阶仪、X射线衍射仪(XRD)、扫描电镜(SEM)、X射线光电子能谱(XPS)进行表征.得到的较佳工艺条件为:电势-0.22--0.45V(vs SCE),温度为60℃,pH值为5.5-6.0,(CH3COO)2Cu浓度为 0.015-0.04mol／L.表征结果发现,随池温的升高,晶粒尺寸从0.2μm增加到0.4μm,60℃沉积的Cu2O薄膜开始具有(111)面择优取向,Cu2O膜纯度高,薄膜表面呈网络多孔结构.

引用

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