用X射线反射测量法表征双层结构中低原子序数材料的特性(英文)

被引：5

作者：

徐垚

王占山

徐敬

张众

王洪昌

朱京涛

王风丽

王蓓

秦树基

陈玲燕

机构：

[1] 同济大学精密光学工程技术研究所

来源：

光学精密工程 | 2007年 / 12期

关键词：

X射线衍射仪; 低原子序数材料; 反射率测试; 薄膜;

D O I：

暂无

中图分类号：

TN304 [材料];

学科分类号：

0805 ; 080501 ; 080502 ; 080903 ;

摘要：

介绍了用X射线反射测量术表征双层薄膜中低原子序数材料特性的方法。由于低原子序数材料的光学常数与Si基板材料的光学常数非常接近,用X射线反射法确定镀制在Si基板上的低原子序数材料膜层结构的变化十分困难,因此,提出了在镀制低原子序数材料前,首先在基板上镀制一层非常薄的金属层的方法。实验中,选用Cr作为金属层材料,制备并测试了三种不同C膜镀制时间的Cr/C双层薄膜。反射率曲线拟合结果表明,C膜密度约为2 .25 g/cm3,沉积速率为0 .058 nm/s。

引用

页码：1838 / 1843

页数：6

共 16 条

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