未找到相关数据
光学光刻的极限
被引：1
作者：
机构：
来源：
关键词：
镜头;
芯片尺寸;
倍率;
数值孔径;
视场;
光学光刻技术;
光栅扫描;
抗蚀剂;
掩模台;
极限;
D O I：
暂无
中图分类号：
学科分类号：
摘要：
光学光刻是３０年来ＩＣ生产中作图技术的主要工艺方法。抗蚀剂和光学系统方面的迅猛发展和惊人进步，已超前于更复杂的替代方法的应用。这种替代还将继续多久？采用变换镜头和系统的各种途径表明，光学光刻技术仍有发展的余地。光学光刻的极限将延伸到１００ｎｍ以下，接近７０～８０ｎｍ。
引用
收藏
页码：55 / 60
页数：6
相关论文