磁控溅射镍膜催化生长石墨烯及迁移表征

被引：2

作者：

牛亮 ^{[1
,2
]}

张国玉 ^{[1
]}

刘立伟 ^{[2
]}

机构：

[1] 长春理工大学光电工程学院

[2] 中国科学院苏州纳米技术与纳米仿生研究所

来源：

材料导报 | 2010年 / 24(S1)卷 / S1期

关键词：

磁控溅射; 石墨烯; 化学气相沉积; 镍催化剂;

D O I：

暂无

中图分类号：

TB43 [薄膜技术];

学科分类号：

0805 ;

摘要：

在Si/SiO2衬底上将磁控溅射镍膜作为催化剂,利用化学气相沉积制备了大面积连续的石墨烯薄膜,得到的石墨烯为1～15层。将石墨烯薄膜迁移到玻璃衬底和Si/SiO2衬底上,测量了薄膜的可见光透过率和薄膜电阻,并讨论了石墨烯作为透明导电电极在光电器件上的应用。

引用

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页数：3

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[2]

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