蚜虫胁迫下两种栽培模式大豆生理指标及光谱特征分析

被引：5

作者：

王囡囡 ^{[1
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于忠和 ^{[1
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贾会彬 ^{[1
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朱宝国 ^{[1
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孟庆英 ^{[1
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宋英博 ^{[1
]}

陈庆山 ^{[2
]}

机构：

[1] 黑龙江省农业科学院佳木斯分院

[2] 东北农业大学农学院

来源：

中国油料作物学报 | 2011年 / 33卷 / 01期

关键词：

蚜虫; 光谱反射率; 叶绿素; 栽培模式;

D O I：

暂无

中图分类号：

S565.101 [];

学科分类号：

0901 ;

摘要：

在垄三栽培(70cm垄三行栽培,每公顷保苗30万株)和窄行密植栽培(45cm窄行密植栽培,每公顷保苗45万株)中,利用植物光谱仪测定受害叶片的光谱反射率变化。结果表明,大豆蚜虫危害程度可以在大豆叶片的光谱中得到响应,且近红外区比可见光区更明显。大豆植株受蚜虫危害后,其株高、SPAD(单株叶绿素相对含量)、叶面积和地上部干重均有所下降。不同时期两种栽培模式下受大豆蚜虫危害的植株与正常植株相比,其株高和叶面积差异都达到了显著水平。SPAD值表现略有不同,垄三栽培模式下,受虫害植株与正常植株间差异显著;密植栽培模式下,正常植株的SPAD值极显著高于受虫害植株。地上部干物重在垄三栽培模式下,正常植株与虫害植株不存在显著差异;密植模式下,虫害植株干物重显著低于正常植株。

引用

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页数：4

共 6 条

[1] 水稻白背飞虱虫害的单叶高光谱特征分析 [J].