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铁硅化合物β-FeSi带间光学跃迁的理论研究
被引:21
作者
:
闫万珺
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机构:
贵州大学电子科学与信息技术学院
闫万珺
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机构:
谢泉
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机构:
张晋敏
肖清泉
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机构:
贵州大学电子科学与信息技术学院
肖清泉
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机构:
梁艳
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机构:
曾武贤
机构
:
[1]
贵州大学电子科学与信息技术学院
来源
:
半导体学报
|
2007年
/ 09期
关键词
:
β-FeSi2;
电子结构;
光学特性;
D O I
:
暂无
中图分类号
:
TN301 [基础理论];
学科分类号
:
080903
[微电子学与固体电子学]
;
摘要
:
采用基于第一性原理的赝势平面波方法系统地计算了β-FeSi2基态的几何结构、能带结构和光学性质.能带结构计算表明β-FeSi2属于一种准直接带隙半导体,禁带宽度为0.74eV;其能态密度主要由Fe的3d层电子和Si的3p层电子的能态密度决定;利用计算的能带结构和态密度分析了带间跃迁占主导地位的β-FeSi2材料的介电函数、反射谱、折射率以及消光系数等光学性质计算结果,复介电函数的计算结果表明β-FeSi2具有各向异性的性质;吸收系数最大峰值为2.67×105cm-1.
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页码:1381 / 1387
页数:7
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共 2 条
[1]
半导体光谱和光学性质[M] 沈学础著; 科学出版社 2002,
[2]
Ground State of the Electron Gas by a Stochastic Method Ceperley D M; Alder B L; Phys Rev Lett 1980,
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