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NiFe/Mo多层膜界面的电子显微学研究
被引：3
作者：
高义华
张泽
阎明朗
赖武彦
机构：
[1] 中国科学院北京电子显微镜实验室与凝聚态物理中心
[2] 中国科学院物理研究所磁学国家重点实验室
来源：
基金：
中国科学院基金;
关键词：
多层膜;
取向关系;
面心立方;
体心立方;
光学薄膜;
NiFe/Mo;
生长方向;
D O I：
暂无
中图分类号：
O484,TN16 [];
学科分类号：
080501 ;
1406 ;
摘要：
用高分辨电子显微学方法研究了Ｎｉ８０Ｆｅ２０／Ｍｏ磁性多层膜，结果表明：（１）多层膜的结晶状态，随Ｍｏ非磁性层厚度而变化．当Ｍｏ层厚度为０７ｎｍ时，多层膜基本为非晶；当Ｍｏ层厚度大于１６ｎｍ时，Ｍｏ层和ＮｉＦｅ层内分别结晶为体心立方和面心立方多晶，层内晶粒尺寸为２—６ｎｍ．（２）在Ｍｏ层厚度为１．６和２．１ｎｍ的多层膜中，ＮｉＦｅ层和Ｍｏ层之间存在两种取向关系：（１１０）Ｍｏ∥（１１１）ＮｉＦｅ，［１１１］Ｍｏ∥［１１０］ＮｉＦｅ和（１１０）Ｍｏ∥（１１１）ＮｉＦｅ，［００１］Ｍｏ∥［１１０］ＮｉＦｅ．（３）ＮｉＦｅ层和Ｍｏ层之间有较清晰的界面．界面附近３—４个原子层范围内，ＮｉＦｅ和Ｍｏ的面间距分别相对块状晶体沿生长方向膨胀和压缩．讨论了界面附近面间距的变化，并根据该多层膜显微结构特征，讨论了此系统未显示巨磁电阻效应的原因．
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