X射线衍射里特沃尔德全谱图拟合法测定粉尘中游离的SiO2

被引：14

作者：

曾令民 ^{[1
]}

杨喜英 ^{[2
]}

王力珩 ^{[3
]}

李小萍 ^{[3
]}

葛宪民 ^{[3
]}

机构：

[1] 广西大学物理科学与工程技术学院材料科学研究所

[2] 广西大学化学化工学院

[3] 广西职业病防治研究所

来源：

分析化学 | 2008年 / 05期

关键词：

定量分析; 游离二氧化硅; 非晶体; X射线衍射; Rietveld全谱图拟合法;

D O I：

暂无

中图分类号：

R134 [生产环境卫生];

学科分类号：

100402 ;

摘要：

应用X射线衍射技术与Rietveld全谱图拟合法测定了粉尘中游离SiO2的含量,并同时得到粉尘样品中其它晶相和非晶相物质的含量。实验采用日本理学D/MAX 2500V型X射线衍射仪,CuKα辐射带石墨单色器,管电压44 kV,管电流150 mA,步进扫描收集衍射数据,经Jade 5.0软件定性分析,DBWS9807a软件定量分析,结果为:Rp平均等于11.29%,Rwp平均等于13.74%,Rexpected平均等于4.04%。SiO2在各样品中的含量为15.61%37.83%;加标回收率为102.6%119.9%;重现性测定相对标准偏差（RSD）为1.14%。结果表明:用Rietveld全谱图拟合法测定粉尘中游离SiO2的含量是一种快速、准确、方便的方法。

引用

页码：599 / 603

页数：5