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光学材料破坏机理
被引:29
作者
:
论文数:
引用数:
h-index:
机构:
陈飞
论文数:
引用数:
h-index:
机构:
孟绍贤
机构
:
[1]
中国科学院上海光机所高功率激光物理实验室
来源
:
物理学进展
|
1998年
/ 02期
关键词
:
破坏阈值;
多光子吸收;
光能量;
光子;
玻色子;
光学材料;
自由电子;
载流子(半导体);
光束自聚焦;
光学玻璃材料;
脉冲宽度;
脉冲特性;
声波场;
杂质颗粒;
阈值功率;
雪崩电离;
激光脉冲;
受激布里渊散射;
受激散射;
D O I
:
暂无
中图分类号
:
TN244,TN213 [];
学科分类号
:
摘要
:
本文综述近三十年来国内外光学材料破坏研究发展状况,详细地阐述了表面破坏,杂质缺陷引起的热破坏,受激布里渊散射激发超声波造成的破坏,雪崩电离击穿和多光子吸收电离破坏,以及自聚焦引起的破坏的机理,及其各自的理论模型。
引用
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页码:73 / 92
页数:20
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