H2在Cu/ZnO/Al2O3型低变催化剂上的TPD研究

被引:5
作者
段雪
高正中
王琪
机构
[1] 北京化工学院
关键词
ZnO; 谱图; 低变催化剂; H2; Cu/ZnO/Al2O3; Al; TPD;
D O I
暂无
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学科分类号
摘要
采用TPD法研究了H2在Cu/ZnO/A12O3上的脱附动力学,结果表明在350℃以内,Cu/ZnO/A12O3对H2显示出具有不同能量特征的两个活泼部位(Ⅰ)、(Ⅱ),借助于脱附速率等温线法对(Ⅰ)、(Ⅱ)进行解析,建立了相应的脱附速率方程,并发现Cu/ZnO/A12O3对H2的有效表面为非理想表面,(Ⅰ)、(Ⅱ)对有效表面积的贡献分别为27.6%及72.4%。
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