霍尔源用于光学镀膜

被引：4

作者：

贾克辉

黄建兵

徐颖

陈红

高劲松

曹建林

机构：

[1] 中科院长春光机所

[2] 中科院上海光机所

[3] 中科院长春光机所应用光学国家重点实验室光学技术中心

[4] 长春

[5] 光学薄膜技术研究与发展中心

[6] 上海

[7] 应用光学国家重点实验室光学技术中心

来源：

光子学报 | 2003年 / 10期

关键词：

无栅霍尔源; 光学薄膜; 等离子体辅助镀膜;

D O I：

暂无

中图分类号：

O484.1 [薄膜的生长、结构和外延];

学科分类号：

080501 ; 1406 ;

摘要：

报道了用于辅助镀膜的无栅霍尔等离子体源的结构原理及性能指标 ,并从光学特性、显微特性和机械特性三方面着手 ,研究了使用霍尔源所做的单层TiO2 膜的成膜工艺与质量研究表明 ,使用霍尔源辅助沉积的光学薄膜折射率明显提高 ,更加接近于块状材料 ,膜层结构比传统沉积手段更加致密 ,附着力也很高同时用此项技术沉积了金属增强反射镜 ,试验结果与理论设计结果相符 ,达到了理想要求

引用

页码：1228 / 1230

页数：3