光刻机投影物镜的像差原位检测新技术

被引:6
作者
张冬青
王向朝
施伟杰
王帆
机构
[1] 中国科学院上海光学精密机械研究所信息光学实验室
关键词
信息光学; 像差; 投影物镜; 光刻机; 原位检测;
D O I
暂无
中图分类号
TN305.7 [光刻、掩膜];
学科分类号
1401 ;
摘要
提出了一种新的光刻机投影物镜像差原位检测(AMF)技术。详细分析了该技术利用特殊测试标记检测投影物镜球差、像散、彗差的基本原理,论述了该技术利用对准位置坐标计算像差引起的成像位置偏移量的方法。实验结果表明AMF技术可实现球差、彗差、像散等像差参量的精确测量。AMF技术考虑了光刻胶等工艺因素对像差引起的成像位置偏移量的影响,有效避免了目前基于硅片曝光方式的彗差原位检测技术对离焦量、像面倾斜等像质参量限制的依赖。
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共 1 条
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光学学报, 2005, (04) :533-537