SiCw／涂层／TZP陶瓷复合材料界面化学键的XPS和IR研究

被引：5

作者：

张宗涛，黄勇，江作昭

机构：

[1] 清华大学材料科学与工程系

来源：

关键词：

碳化硅晶须，四方氧化锆多晶体，涂层，界面，化学键，XPS，IR;

D O I：

10.14062/j.issn.0454-5648.1994.01.014

中图分类号：

TQ174.758.2 [];

学科分类号：

0809 ;

摘要：

本文用ＸＰＳ和ＩＲ测定了ＳｉＣ＿ｗ／（Ａｌ＿２Ｏ＿３，莫来石）涂层／ＴＺＰ陶瓷复合材料的界面化学键。结果表明ＳｉＣ＿ｗ／Ａｌ＿２Ｏ＿３、莫来石、ＴＺＰ界面为化学结合而Ａｌ＿２Ｏ＿３、莫来石／ＴＺＰ界面为物理结合。

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