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多层片式ZnO压敏电阻器
被引:7
作者
:
何晓明
论文数:
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0
机构:
中国科学院上海硅酸盐研究所
何晓明
陈大任
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机构:
中国科学院上海硅酸盐研究所
陈大任
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机构:
李国荣
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机构:
张望重
论文数:
引用数:
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机构:
刘胜利
机构
:
[1]
中国科学院上海硅酸盐研究所
来源
:
功能材料
|
1998年
/ 02期
关键词
:
ZnO压敏电阻器,多层片式结构,流延工艺;
D O I
:
暂无
中图分类号
:
TM5 [电器];
学科分类号
:
080801 ;
摘要
:
用流延工艺制备了ZnO Bi2O3系统的多层独石式片状结构的ZnO压敏电阻器,测量了元件的电学性能,结果表明:用常规ZnO瓷料,选用合适的厚膜制备工艺和内电极材料能得到性能良好的低压ZnO压敏电阻器。
引用
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页码:85 / 86+100
页数:3
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