石英衬底上生长的高光学质量的纳米金刚石薄膜

被引：16

作者：

邱东江

石成儒

吴惠桢

机构：

[1] 浙江大学物理系

[2] 浙江大学中心实验室

[3] 浙江大学物理系杭州

[4] 杭州)

来源：

物理学报 | 2002年 / 08期

基金：

浙江省自然科学基金;

关键词：

纳米金刚石薄膜; 射频等离子体增强热丝化学气相沉积; 光透过率;

D O I：

暂无

中图分类号：

TN304.055 [];

学科分类号：

0805 ; 080501 ; 080502 ; 080903 ;

摘要：

采用射频等离子体增强的热丝化学气相沉积 (RF HFCVD)技术在石英玻璃衬底上制备了表面光滑、晶粒致密均匀的纳米金刚石薄膜 .用扫描电子显微镜 (SEM)和台阶仪观测薄膜的表面形貌和粗糙度 ,x射线衍射 (XRD)和Raman光谱表征膜层的结构 ,并用紫外可见近红外光谱仪测量其光透过率 .实验结果表明 ,衬底温度、反应气压及射频功率对金刚石膜的结晶习性、表面粗糙度及光透过率均有很大程度的影响 ,其最佳值分别为 70 0℃ ,2× 133Pa和 2 0 0W .在该最佳参量下经 1h的生长即获得连续、平滑的纳米金刚石膜 ,其平均晶粒尺寸为约 2 5nm ,表面平均粗糙度仅为 5 5nm ,在近红外区的光透过率高达 90 %

引用

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