TaN/TiN和TaWN/TiN多晶超晶格薄膜的微结构与超硬效应

被引：6

作者：

许俊华

李戈扬

顾明元

机构：

[1] 上海交通大学金属基复合材料国家重点实验室!上海２０００３０

来源：

金属学报 | 1999年 / 11期

关键词：

TaN／TiN; TaWN／TiN; 超晶格薄膜; 晶格错配度; 超硬效应;

D O I：

暂无

中图分类号：

O484.1 [薄膜的生长、结构和外延];

学科分类号：

080501 ; 1406 ;

摘要：

通过磁控反应溅射仪制备了ＴａＮ／ＴｉＮ和ＴａＷＮ／ＴｉＮ多晶超晶格薄膜，采用Ｘ射线衍射仪（ＸＲＤ）、透射电子显微镜和显微硬度仪对超晶格薄膜的微结构和硬度进行了分析结果表明，ＴａＮ／ＴｉＮ和ＴａＷＮ／ＴｉＮ二超晶格体系中各组成材料的晶体结构均为面心立方，呈多晶外延生长模式，从而形成共格界面，产生协调应变ＴａＮ／ＴｉＮ和ＴａＷＮ／ＴｉＮ超晶格薄膜都存在超硬效应，分别在调制周期９．０和５．６ｎｍ时取得相应的最大硬度值ＨＫ＝４０．０和５０．０ＧＰａ．研究认为不同的晶格错配度影响薄膜的硬度以及硬度峰值的位置，界面协调应变所引起的交变应力场阻碍位错的运动是导致硬度异常的主要原因

引用

页码：0 / 0+0 +0-0

页数：5