时间监控离子束溅射沉积光学薄膜的厚度修正

被引：2

作者：

刘洪祥

李凌辉

申林

熊胜明

张云洞

机构：

[1] 中国科学院光电技术研究所

[2] 中国科学院光电技术研究所四川成都

[3] 四川成都

来源：

光学仪器 | 2004年 / 02期

关键词：

离子束溅射; 时间监控; 光学厚度;

D O I：

暂无

中图分类号：

O484.1 [薄膜的生长、结构和外延];

学科分类号：

080501 ; 1406 ;

摘要：

通过单层和多层膜的实验模拟,研究了离子束溅射沉积速率和沉积时间的关系。在溅射镀膜的初始阶段,对于Ta2O5,沉积速率随时间增加而增大;对于SiO2,沉积速率随时间先显著地增加,随后逐渐地减小。结果表明,通过对高、低折射率各层的监控时间进行补偿,即可实现光学薄膜厚度的精确监控。

引用

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页数：4

共 3 条

[1]

Internal stress and optical properties of Nb2 O5 thin films deposited by ion-beam sputtering. Lee CH CH,Lin CH,Hsu J CH. Applied Optics . 2002

[2]

Reduction of absorption losses in ion beam sputter deposition of optical coatings for the visible and near infrared. Volker S,Markus T,Theo T. Proceedings of SPIE the International Society for Optical Engineering . 1994

[3]

A simple model for formation of compressive stress in thin films by ion bombardment. Davis C A. Thin Solid films . 1993

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