适于青蒿芽生长和青蒿素积累的光、温和培养方式探讨

被引：22

作者：

刘春朝

王玉春

康学真

欧阳藩

叶和春

李国凤

机构：

[1] 中国科学院化工冶金研究所生化工程国家重点实验室!北京,中国科学院化工冶金研究所生化工程国家重点实验室!北京,中国科学院化工冶金研究所生化工程国家重点实验室!北京,中国科学院化工冶金研究所生化工程国家重点实验室!北京,中国科学院植物研究所!北

来源：

植物生理学报 | 1999年 / 02期

关键词：

青蒿; 芽; 生长; 青蒿素;

D O I：

暂无

中图分类号：

Q945 [植物生理学];

学科分类号：

0903 ;

摘要：

探讨了光照、温度和培养方式对青蒿芽生长和青蒿素合成的影响。适宜芽生长和青蒿素积累的光照强度约为３０００ｌｘ，照光时间为２０ｈ／ｄ；芽生长和青蒿素积累的最适温度分别为２５ ℃和３０ ℃，通过先２５ ℃（２５ｄ）后３０ ℃（５ｄ）的温度转变二步培养法可以提高青蒿素的产量；青蒿芽生长和青蒿素积累的最佳培养方式为非浸没低转速摇瓶培养。

引用

页码：105 / 109

页数：5

共 3 条

[1] Production of artemisinin by hairy root cultures of Artemisia annua L [J].