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IGCT器件制造中的离子注入扩散技术
被引:5
作者
:
张明
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
机构:
株洲南车时代电气股份有限公司电力电子事业部
张明
机构
:
[1]
株洲南车时代电气股份有限公司电力电子事业部
来源
:
变流技术与电力牵引
|
2006年
/ 05期
关键词
:
IGCT;
离子注入扩散;
杂质分布图;
D O I
:
暂无
中图分类号
:
TN305.4 [扩散];
学科分类号
:
080508
[光电信息材料与器件]
;
摘要
:
概述了电力电子器件中的扩散方法,提出了采用离子注入的试验方案,经试验得到了离子注入扩散的规律。在集成门极换向晶闸管(IGCT)器件的阴极端成功实现了硼、铝双杂质离子注入扩散层的正确分布,从而证实了该方法的可行性。
引用
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页码:23 / 25+45 +45
页数:4
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共 1 条
[1]
门关断闸流晶体管及其制造方法
[P].
彼得·罗格韦勒
论文数:
0
引用数:
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彼得·罗格韦勒
.
中国专利
:CN1008782B
,1988-11-23
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彼得·罗格韦勒
.
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:CN1008782B
,1988-11-23
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