常压辉光放电及其在薄膜表面处理中的应用

被引：6

作者：

林福昌

何磊

戴玲

李劲

机构：

[1] 华中科技大学脉冲功率研究与发展中心

来源：

高电压技术 | 2002年 / S1期

关键词：

常压辉光放电; 等离子体; 表面处理;

D O I：

10.13336/j.1003-6520.hve.2002.s1.019

中图分类号：

O461.21 [];

学科分类号：

摘要：

常压辉光放电 (APGD)是具有较高电子能量的非平衡等离子体 ,比低压辉光放电更易于实现工业化应用。比较了几种获得常压辉光放电的实验方案 ,基于对常压辉光放电等离子体基本物化特性的深入了解 ,探讨了各种等离子体气氛对于绝缘介质薄膜电气及化学特性的作用 (比如憎水性、表面位能等 ) ,并将之用于绝缘介质薄膜的表面处理中 ,对于薄膜性质的改善起到了较好的作用 ,对常压辉光放电等离子体的应用作了有益的尝试

引用

页码：44 / 46

页数：3

共 6 条

[1] 利用乙醇等离子体对PTFE进行表面改性 [J].